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主要设备和仪器

 

1.电子束曝光设备(EBL)、紫外光刻设备(UVL)、纳米压印设备

  (联系人:董凤良 82545831 82545557 南楼227)

 

2.电子束蒸发镀膜(EBE)、DC/RF磁控溅射镀膜、ICPECVD沉积镀膜

 (联系人:宋志伟 李晓军 82545839 82545641 南楼216)

  

3.高密度等离子体ICP硅刻蚀机、高密度等离子体ICP金属刻蚀机、反应离子刻蚀机(RIE)、等离子去胶机

 (联系人:徐丽华 82545839 82545668 南楼218)

  

4.RTO/RTP快速合金炉、湿法台(Wet Benches)、热氮烘干机、匀胶机

 (联系人:徐丽华 82545839 82545668 南楼218)

  

5.台阶仪、椭圆偏振仪、光学显微镜、半导体参数测试仪,高分辨场发射扫描电镜(SEM)、划片机、引线焊接机

  (联系人:董凤良 82545831 82545557 南楼227)   

  

  

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